一、发明或实用新型专利申请：

应提供下列内容的技术交底书：

1、中国专利申请专利名称；

2、中国专利申请本发明所属的技术领域；

3、与本发明相比，最接近的现有技术是什么，并描述现有技术存在的缺陷；

4、针对现有技术的缺陷，提出本发明要解决的技术问题，即本发明的目的；

5、结合附图详细描述本发明的技术方案，以及由此带来的有益效果。所述附图，应该是一幅或者多幅能够详细表述本发明技术方案的图，例如电路框图，电路图，系统结构示意图，产品结构示意图，某部件的局部放大图等。

二、外观设计专利申请：

应提交样品或模型拍照、绘图，也可直接提交符合要求的六面视图的照片或图片。

三、专利授权所需时间：

1、发明，初审时间为十八个月左右，需在三年内任何时间提出实质审查，但早提实审者有利于早授权。一般2~3年授权。

2、实用新型，审查时间为六个月左右，一般6~8个月授权。

3、中国外观设计，审查时间为四个月左右，一般5~6个月授权。

注：专利经审查核准后，需缴纳登记费、年费后发证书，于专利公报公告，自公告之日起给予专利权生效。